Obiectul inventiei - Realizarea unui procedeu de obtinere a nanotuburilor metalice prin umplerea cu metal a porilor unui templat poros de semiconductor cu excluderea fazelor de sensibilizare si activare catalitica a suprafetei templatului.

Potentiali beneficiari - Producatorii de circuite optoelectronice si fotonice integrate.

EVOLUTIA SI APARITIA NOULUI PROCEDEU DE OBTINERE A NANOTUBURILOR METALICE

Noul procedeu
Noul procedeul de fabricare a nanotuburilor metalice consta in depunerea electrochimica a metalelor in interiorul porilor unui templat de semiconductor poros sub actiunea impulsurilor de tensiune. Aplicarea impulsurilor de tensiune in procesul electrochimic permite de a obtine nanotuburi metalice cu grosimea peretilor dirijata de parametrii electrici si timpul de depunere intr-un singur proces de depunere electrochimica.
Procedee traditionale
De regula, se folosesc doua metode de obtinere a nanostructurilor metalice. Una din aceste metode este injectarea sub presiune a unui material topit in vid in porii unui material poros. Alta metoda este umplerea electrochimica cu metal a porilor unui templat poros de oxid de aluminiu. A mai fost propusa depunerea chimica a metalelor in interiorul porilor unui templat de semiconductor poros, suprafata caruia este sensibilizata si activata catalitic.

AVANTAJE

• Folosirea utilajului ieftin si a temperaturilor recomandabile, fapt care nu duce la schimbarea proprietatilor materialului poros
• Obtinerea unor nanotuburi metalice de calitate superioara, deoarece are loc umplerea completa a porilor templatului de la un capat la altul
• Excluderea folosirii multiplelor faze tehnologice, ca sensibilizarea si activarea catalitica a suprafetei templatului semiconductor

Stadiul de dezvoltare - Faza de dezvoltare - testare in laborator

Unde a fost aplicata/testata - Universitatea Tehnica a Moldovei.

Tip de colaborare dorita - Parteneriat.